Penelitian tentang Persiapan dan Karakteristik Spektral Struktur Hetero Grafena/TMD
Abstrak
Struktur hetero Van der Waals (vdWs) yang terdiri dari bahan dua dimensi telah mendapat perhatian luas, karena sifat kelistrikan dan optoelektroniknya yang menarik. Dalam makalah ini, film graphene ukuran besar berkualitas tinggi pertama kali dibuat dengan metode deposisi uap kimia (CVD); kemudian, film graphene dipindahkan ke SiO2 /Si substrat; selanjutnya, graphene/WS2 dan graphene/MoS2 hetero-struktur disiapkan dengan metode deposisi uap kimia tekanan atmosfer, yang dapat dicapai dengan menumbuhkan WS secara langsung2 dan MoS2 materi tentang graphene/SiO2 /Si substrat. Akhirnya, karakterisasi uji struktur hetero graphene / TMD dilakukan oleh spektroskopi AFM, SEM, EDX, Raman dan PL untuk mendapatkan dan memahami hukum morfologi dan luminesensi. Hasil pengujian menunjukkan bahwa struktur hetero graphene/TMDs vdWs memiliki kualitas film dan karakteristik spektral yang sangat baik. Ada medan listrik bawaan pada antarmuka heterojunction graphene / TMD, yang dapat mengarah pada pemisahan pasangan elektron-lubang yang dihasilkan foto secara efektif. WS Monolayer2 dan MoS2 bahan memiliki kemampuan penyerapan broadband yang kuat, elektron yang dihasilkan foto dari WS2 dapat mentransfer ke p . yang mendasarinya -ketik graphene saat graphene/WS2 bahan hetero-struktur terkena cahaya, dan lubang yang tersisa dapat menginduksi efek gerbang cahaya, yang kontras dengan fotokonduktor semikonduktor biasa. Penelitian tentang karakteristik spektral dari struktur hetero graphene/TMDs dapat membuka jalan bagi penerapan perangkat optoelektronik baru.
Pengantar
Ukuran transistor semikonduktor oksida logam (CMOS) berbasis silikon tradisional menjadi lebih kecil dengan peningkatan integrasi chip, dan proses persiapan perangkat menjadi jauh lebih rumit, sehingga para peneliti mulai fokus pada ultra-tipis berbasis struktur hetero. optoelektronik [1, 2]. Struktur hetero dua dimensi (2D) dapat digabungkan oleh gaya van der Waals (vdWs) yang lemah antara lapisan dan ikatan kovalen yang kuat dari lapisan tersebut. Lapisan-lapisan tersebut dapat dipisahkan dengan memutus ikatan van der Waals yang lemah dan kemudian dengan mudah dipindahkan ke substrat lain [3]. Pembentukan struktur hetero 2D vdWs tingkat atom baru dapat dicapai dengan menumpuk bahan 2D yang berbeda, dan efek sinergis dari struktur hetero 2D menjadi sangat penting. Sementara itu, ada penataan ulang muatan dan perubahan struktural antara kristal yang berdekatan dalam struktur hetero, yang dapat diatur dengan menyesuaikan orientasi relatif dari masing-masing bahan elemen. Struktur hetero yang berbeda tidak hanya dapat mempertahankan sifat material tunggal, tetapi juga menghasilkan karakteristik fisik baru di bawah efek sinergi [4,5,6]. Struktur hetero vdWs adalah jaminan material untuk mengeksplorasi fenomena dan hukum fisika baru, yang dapat memberikan lebih banyak kemungkinan untuk perangkat nano-elektronik dengan sifat fotolistrik yang sangat baik.
Karena bahan kristal 2D memiliki interaksi yang kuat terhadap cahaya, mereka telah menarik perhatian yang luas sebagai bahan fotosensitif [7]. Grafena adalah bahan 2D tingkat atom dengan sifat listrik, optik dan mekanik yang sangat baik, yang memiliki aplikasi luas di bidang optoelektronik [8,9,10]. Namun, cacat celah pita nol membatasi aplikasi dan pengembangan graphene. Struktur material dichalcogenide logam transisi (TMDs) 2D mirip dengan graphene, dan lebar celah pitanya berubah dengan jumlah dan ketebalan lapisan [11, 12]. Bahan TMD dan graphene dengan keunggulan komplementer ditumpangkan bersama, yang dapat mempromosikan penerapan bahan graphene dan TMD di bidang deteksi fotolistrik [13,14,15]. Mobilitas graphene yang tinggi dapat memastikan respons perangkat yang cepat, dan singularitas Van Hof dalam kerapatan keadaan elektronik bahan TMD memastikan interaksi yang kuat antara cahaya dan bahan, yang secara efektif dapat meningkatkan penyerapan cahaya dan generasi pasangan elektron-lubang [16, 17]. Struktur hetero 2D banyak digunakan dalam perangkat elektronik dan optoelektronik baru, yang disebabkan oleh karakteristik pengangkutannya dari tunneling muatan atau akumulasi muatan, rekayasa pita energi fleksibel, dan karakteristik eksiton interlayer yang unik. Oleh karena itu, interaksi sinergi antar lapisan antara bahan graphene dan TMDs dapat secara efektif mengontrol struktur pita, sifat magnetik, dan sifat eksiton dari struktur hetero. Struktur hetero graphene/TMDs memiliki fotosensitivitas tinggi dan kinerja respons cahaya, yang disebabkan oleh efek kurungan kuantum yang kuat [18, 19]. Saat ini, ada beberapa penelitian tentang metode preparasi yang dapat dikontrol dari struktur hetero graphene/TMDs area besar, ukuran besar dan berkualitas tinggi. Dan proses persiapan hetero-struktur rumit, yang masih menjadi tantangan besar dalam hal pengulangan dan pengendalian [20, 21]. Selain itu, sulit untuk memahami dan memahami karakteristik spektral dari struktur hetero graphene/TMDs, yang sebagian besar menghambat penerapan struktur hetero graphene/TMDs di perangkat optoelektronik masa depan [22].
Dalam makalah ini, graphene/WS2 dan graphene/MoS2 hetero-struktur terdiri dari tiga jenis bahan semikonduktor dengan konstanta dielektrik yang berbeda, lebar celah pita dan koefisien penyerapan. Bahan 2D langsung ditumbuhkan pada film graphene kristal tunggal SiO2 /Si substrat untuk membentuk struktur hetero graphene/TMDs, yang dapat memastikan antarmuka yang bersih dan transisi tingkat atom dari struktur hetero. Struktur graphene, MoS2 dan WS2 dapat dianalisis dengan spektroskopi AFM, SEM, EDX, Raman dan photoluminescence untuk menguasai karakteristik spektral dari struktur hetero graphene/TMDs, yang dapat digunakan untuk mempersiapkan transistor mobilitas elektron berkecepatan tinggi (HEMT) dan detektor fotolistrik [23, 24,25].
Metode
Persiapan dan Pergerakan Grafena
Film graphene berkualitas tinggi dengan area luas disiapkan oleh sistem CVD, yang terdiri dari tungku tabung, sistem pencampuran gas, dan mesin vakum. Pertama, foil tembaga dengan ukuran 10 cm × 10 cm ditempatkan ke dalam 1 mol/L larutan asam klorida untuk pembersihan ultrasonik selama 3 menit. Kemudian dicuci dengan air dan etanol secara bergantian. Selanjutnya dikeringkan dengan meniupkan gas argon. Akhirnya, dimasukkan di tengah tabung kuarsa, dan kami memasang sistem dan mengoreksi tekanan udara [26] (Gbr. 1).
a Diagram sistem CVD pertumbuhan graphene dan b kurva suhu selama pertumbuhan graphene
Seperti yang kita ketahui bersama, foil tembaga polikristalin akan mempengaruhi kualitas graphene, maka perlu dilakukan anil substrat tembaga foil sebelum percobaan pertumbuhan graphene. Kondisi khusus dari proses annealing pada tahap 1 adalah sebagai berikut:suhu annealing, waktu dan laju aliran hidrogen (H2 ) gas masing-masing adalah 1000 °C, 20 menit dan 30 sccm. Pada saat ini, permukaan foil tembaga akan membentuk domain kristal tunggal yang luas, dan H2 gas dapat mengurangi oksida tembaga, yang dapat memperoleh substrat tembaga kemurnian tinggi. Suhu pertumbuhan tetap konstan saat memasuki tahap 2, laju aliran H2 gas diatur menjadi 10 sccm, sedangkan metana 35 sccm (CH4 ) gas juga diperkenalkan, waktu pertumbuhan dan tekanan pertumbuhan, masing-masing, dipertahankan selama 10 menit dan 1,08 Torr, dan laju pertumbuhan graphene sekitar 16 m/s dalam eksperimen CVD kami, yang akan memastikan persiapan lapisan tunggal yang relatif seragam. film grafena [27, 28]. Akhirnya, tungku tabung dipadamkan ke suhu kamar pada tingkat tertentu, yang dapat menghindari kerusakan permukaan substrat.
Berikut ini menjelaskan proses spesifik transfer material graphene monolayer ke SiO2 /Si substrat [29]. Pertama, larutan PMMA dengan fraksi massa 4% di-spin-coating secara merata pada permukaan material graphene monolayer dengan ukuran 1 cm × 1 cm, kecepatan dan waktu putaran masing-masing 3000 R/menit dan 1 menit. Selanjutnya, substrat foil tembaga digores dengan (NH4 )2 (JADI4 )2 larutan dengan fraksi massa 3%, dan waktu perawatan adalah 3-4 jam. Kemudian, PMMA/graphene dengan slide kaca dibilas berulang kali dalam air deionisasi 2-3 kali, dan PMMA/graphene dipindahkan ke tabel suhu konstan 50 °C dengan SiO2 /Si substrat, yang dapat menghilangkan uap air antara bahan graphene monolayer dan SiO2 /Si substrat, dan bahan graphene monolayer dapat melekat lebih baik pada SiO2 /Si substrat. Pada langkah ini, SiO2 /Si substrat dengan ukuran 1 × 1 cm
2
dibersihkan secara ultrasonik dengan aseton, etanol, dan air selama 15 menit, dan permukaan SiO2 /Si substrat sangat bersih dan seragam, yang kondusif untuk pertumbuhan struktur hetero graphene/TMDs. Akhirnya, PMMA/graphene/SiO2 /Si dimasukkan ke dalam larutan aseton selama 3-4 jam untuk melarutkan PMMA dan dicuci berulang kali dengan alkohol dan air deionisasi untuk memastikan bahwa film graphene monolayer dapat ditransfer ke SiO2 /Si substrat.
Persiapan Struktur Hetero Grafena/TMD
Dalam tungku tabung zona suhu ganda CVD, graphene/SiO2 Substrat /Si digunakan untuk pertumbuhan MoS2 dan WS2 bahan. MoO3 , WO3 dan bubuk belerang masing-masing digunakan sebagai sumber molibdenum pertumbuhan, sumber tungsten dan sumber belerang. Gas Ar dengan kemurnian tinggi juga digunakan untuk membuat graphene/MoS2 dan graphene/WS2 hetero-struktur, masing-masing. Pertama, perahu kuarsa dengan bubuk belerang 100 mg ditempatkan di hulu tungku tabung. Kemudian, 2 mg MoO3 bedak (atau WO3 bubuk) diisi dalam perahu kuarsa lain, dan graphene/SiO2 /Si substrat terbalik pada MoO3 bedak (atau WO3 bubuk). Kemudian, kapal kuarsa dilengkapi dengan graphene/SiO2 /Si substrat dan MoO3 bedak (atau WO3 bubuk) dimasukkan ke dalam area suhu tinggi tungku tabung. Sabuk pemanas dililitkan pada tabung kuarsa untuk memanaskan bubuk belerang, yang akan memastikan bahwa bubuk belerang dikontrol dengan baik dan diuapkan secara merata, seperti yang ditunjukkan pada Gambar 2a. Selanjutnya digunakan gas Ar dengan kemurnian tinggi dengan laju alir 50 sccm sebagai gas pembawa, suhu penguapan serbuk belerang dikontrol pada 150 °C, suhu pertumbuhan dan waktu pertumbuhan MoS2 dan WS2 masing-masing adalah 750 °C, 920 °C dan 10 menit. Sementara itu, suhu tahap pertama dipertahankan pada 100 °C selama 10 menit, yang dapat menghilangkan uap air dari tungku tabung. Diagram perubahan suhu spesifik ditunjukkan pada Gambar. 2b. Selanjutnya, serbuk belerang mulai menyublim menjadi uap belerang, dan uap belerang mencapai area suhu tinggi tungku tabung, yang dapat digerakkan oleh gas Ar. Itu dapat sepenuhnya bereaksi dengan MoO3 dan WO3 bubuk, dan produk diendapkan pada graphene/SiO2 /Si substrat. Oleh karena itu, tingkat pertumbuhan hetero-struktur graphene/TMDs konsisten dengan bahan TMDs [30]. Setelah pertumbuhan MoS2 dan WS2 bahan, tungku tabung didinginkan secara alami hingga suhu kamar, dan warna substrat menjadi kuning muda.
a Pembuatan diagram skematik heterostruktur graphene/TMD dan b kurva hubungan antara suhu pertumbuhan dan waktu
Uji Karakterisasi Struktur Hetero Grafena/TMD
Dalam makalah ini, metode pengujian dan karakterisasi struktur hetero graphene/TMDs terutama mencakup spektroskopi mikroskop optik (OM), Raman dan photoluminescence (PL), mikroskop elektron pemindaian emisi medan (FESEM), spektroskopi sinar-X dispersif energi ( EDX) dan mikroskop gaya atom (AFM). Pertama, morfologi permukaan struktur hetero graphene/TMDs dapat diamati dengan mikroskop optik, SEM dan AFM. Jumlah lapisan hetero-struktur dapat dinilai berdasarkan kontras yang berbeda dari sampel hetero-struktur. Kemudian, karakteristik spektral dari struktur hetero graphene/TMDs diuji dan dikarakterisasi. Morfologi pertumbuhan, pola pertumbuhan dan mekanisme pertumbuhan bahan TMDs pada permukaan graphene dianalisis dan dispekulasikan berdasarkan hasil karakterisasi [31]. Selanjutnya, spektroskopi Raman memiliki keunggulan kecepatan, efisiensi tinggi dan daya rusak yang rendah dalam hal mengkarakterisasi bahan 2D. Itu dapat secara langsung mengamati interaksi fonon elektron pada permukaan sampel, yang memiliki rentang aplikasi yang sangat luas dalam bahan 2D. Jumlah lapisan dan kualitas kristal bahan 2D dapat dinilai secara efektif dengan menganalisis posisi puncak karakteristik spektrum Raman, perbedaan jumlah gelombang posisi puncak karakteristik dan karakteristik lain dari struktur hetero graphene/TMDs. Akhirnya, spektrum PL juga merupakan metode penting untuk mengkarakterisasi dan menganalisis bahan 2D. Ketika bahan curah ditipiskan menjadi bahan monolayer, lebar celah pita bahan TMD berubah dari semikonduktor celah pita tidak langsung menjadi semikonduktor celah pita langsung. Sementara itu, efek fluoresensi ditingkatkan secara signifikan, dan ada puncak karakteristik yang jelas dalam spektrum PL. Namun, jika kualitas kristal struktur hetero graphene/TMDs tidak tinggi, intensitas puncak karakteristik spektrum PL akan kecil bahkan jika sampel memiliki beberapa lapisan atau monolayer. Oleh karena itu, ketebalan lapisan dan kualitas kristal sampel juga dapat dinilai dengan spektrum PL. Selain itu, distribusi, jenis elemen dan persentase konsentrasi film struktur hetero graphene/TMDs dapat diperoleh dengan FESEM dan EDX. Sementara itu, uji AFM juga digunakan untuk mengetahui kebersihan permukaan, kekasaran, dan ketebalan material sampel film struktur-hetero.
Baik spektrum PL dan Raman dikumpulkan oleh spektrometer Raman resolusi tinggi LabRAM HR Evolution, yang diproduksi oleh HORIBA Jobin Yvon (Perusahaan Prancis) [32, 33]. Rentang spektrum Raman dan PL adalah 300 cm
−1
–3000 cm
−1
dan 550–800 nm, masing-masing. Dan spektrum Raman dan PL masing-masing memiliki daya 10% dan daya 5%. Berikut ini adalah kondisi pengujian spesifik, resolusi spektral ≤ 0,65 cm
−1
; resolusi spasial:horizontal ≤ 1 m, vertikal ≤ 2 m; Laser 532 nm, lensa objektif 50× (diameter titik pancaran sinar adalah 1,25 μm, dan daya laser 100% setara dengan 7500 μw/cm
2
); waktu pemindaian 15 s, dan jumlah kumulatifnya adalah 2.
Hasil dan Diskusi
Mikrograf Optik dan Karakterisasi Grafena/WS2 Hetero-struktur
Morfologi hetero-struktur dapat dibedakan dengan mikroskop resolusi tinggi spektrometer Raman. Gambar 3a menunjukkan gambar mikroskop optik graphene/WS2 hetero-struktur di bawah lokasi yang berbeda dari SiO2 /Si substrat. Karena warna film graphene ditransfer ke SiO2 Substrat /Si tidak jauh berbeda, film graphene relatif seragam dan lengkap. Permukaan graphene/SiO2 Substrat /Si bersih kecuali sejumlah kecil partikel, yang menunjukkan adanya kualitas film graphene yang lebih baik. Sementara itu, kerapatan nukleasi WS2 menjadi maksimum ketika konsentrasi gas mencukupi pada percobaan pertumbuhan WS2 . Dan WS2 ditanam di graphene/SiO2 Substrat /Si adalah butiran berstruktur segitiga dengan permukaan butiran seragam dan panjang sisi sekitar 120 m. Bentuk WS2 teratur dan lengkap, dan ketebalannya seragam, yang jauh lebih besar dari ukuran sampel pengelupasan mekanis [34]. Pada Gambar. 3b, karena intensitas fluoresensi WS2 sampel terdistribusi sangat seragam, monolayer segitiga WS2 film memiliki kualitas yang lebih tinggi dan cacat yang lebih rendah. Dapat dilihat dari Gambar 3c, d bahwa morfologi WS2 sampel film adalah segitiga, dan ketebalan WS2 film adalah 0,83 nm, yang menunjukkan persiapan WS monolayer2 film. Selain itu, SEM juga digunakan untuk menganalisis morfologi WS2 film sampel, dan morfologi adalah segitiga biasa dengan ketebalan seragam, seperti yang ditunjukkan pada Gambar. 3e. Pada Gbr.3f, elemen dock, elemen sulfur, dan elemen karbon ditampilkan dalam spektrum EDX, yang menunjukkan bahwa graphene/WS2 materi hetero-struktur berhasil ditransfer dan disiapkan.
a Mikrograf optik, b pemetaan gambar, c Gambar AFM, d gambar profil tinggi, e Gambar FE-SEM dan f Spektrum EDX dari graphene/WS2 hetero-struktur pada SiO2 /Si substrat
Informasi getaran molekul dan rotasi material dapat diperoleh dengan spektroskopi Raman, yang merupakan spektrum getaran sidik jari untuk mengidentifikasi struktur material. Nomor lapisan dan kualitas kristal WS2 sampel dapat dinilai secara efektif dengan karakteristik posisi puncak dan perbedaan bilangan gelombang dari spektrum Raman. Gambar 4a menunjukkan spektrum Raman dari WS2 sampel pada posisi yang berbeda, E
12g dan A1g puncak karakteristik terletak pada 350,4 cm
−1
dan 416,1 cm
−1
, masing-masing. Saat WS massal2 perubahan bahan monolayer, E
12g dan A1g puncak karakteristik masing-masing muncul sebagai pergeseran biru dan pergeseran merah. Oleh karena itu, nomor lapisan dapat dinilai dari perbedaan bilangan gelombang antara dua puncak karakteristik, dan perbedaan bilangan gelombang adalah 65,7 cm
−1
, jadi segitiga WS2 biji-bijian adalah bahan monolayer. Pada Gambar. 4b, puncak luminesensi terkuat terletak pada 626 nm, dan celah pita yang sesuai adalah 1,98 eV, yang konsisten dengan lebar celah pita WS monolayer2 . Seperti yang kita ketahui bersama, intensitas PL bahan 2D berkaitan dengan kualitas kristal dan jumlah lapisan. Bahan 2D memiliki cacat dan jumlah lapisan yang lebih sedikit, dan intensitas cahaya yang lebih tinggi, yang menunjukkan bahwa kualitas kristal lebih baik [35]. Karakterisasi daya variabel dapat dilakukan pada tingkat nW untuk mencegah radiasi laser merusak sampel. Dapat ditemukan dengan mengamati Gambar. 4c bahwa posisi puncak E
12g mode getaran bidang pada dasarnya tetap tidak berubah dengan peningkatan daya eksitasi, dan A1g mode getaran antara pesawat bergerak ke arah bilangan gelombang pendek. Ini karena A1g mode getaran memiliki hubungan yang besar dengan konsentrasi elektron, dan peningkatan konsentrasi elektron akan menyebabkan reformasi celah pita. Seperti yang ditunjukkan pada Gambar. 4d, intensitas spektrum PL WS2 meningkat dengan peningkatan daya laser, dan ada fenomena pendinginan fluoresensi, yang disebabkan oleh reformasi celah pita dan interaksi antar lapisan dari struktur hetero. Pada saat yang sama, juga dapat ditemukan bahwa suhu lokal bahan hampir tidak berubah dengan peningkatan daya laser. Ini karena WS2 adalah nanomaterial tingkat lapisan atom.
Karakterisasi spektral WS2 . a Spektrum Raman pada posisi berbeda, b Spektrum PL pada posisi yang berbeda, c kekuatan spektrum Raman dan d spektrum daya PL
Karakterisasi nomor lapisan dan informasi kualitas bahan graphene dapat diperoleh dengan spektroskopi Raman. Pada Gambar 5a, spektrum difraksi Raman dari graphene pada posisi yang berbeda memiliki tiga puncak karakteristik utama, puncak D, puncak G dan puncak 2D, masing-masing terletak pada 1330 cm
−1
, 1583 cm
−1
dan 2674 cm
−1
. Puncak D terkait dengan gangguan struktur kisi graphene, dan posisi puncak D bergeser biru ketika bahan graphene memiliki lebih banyak cacat kisi, yang dapat mencerminkan cacat dan kandungan pengotor kristal. Puncak 2D adalah puncak Raman resonansi orde kedua dua phonon, yang dapat menunjukkan susunan atom karbon dari bahan graphene. Selain itu, puncak G disebabkan oleh E2g mode pusat zona Brillouin pertama, ketinggian puncak meningkat hampir secara linier dengan jumlah lapisan graphene, dan intensitas puncak G terkait dengan doping graphene sampai batas tertentu. Rasio relatif puncak 2D dan puncak G dapat digunakan untuk secara kasar menentukan jumlah lapisan graphene, dan rasio puncak D terhadap puncak G akan berkurang ketika kerapatan cacat ditingkatkan. Puncak D yang lemah muncul pada spektrum Raman graphene ketika pertumbuhan MoS2 (atau WS2 ) materi selesai, yang menunjukkan bahwa domain graphene masih mempertahankan kualitas tinggi. Intensitas puncak 2D area graphene yang terpapar melemah, yang dipengaruhi oleh proses pertumbuhan suhu tinggi. Lebar penuh pada setengah maxima (FWHM) puncak graphene 2D secara bertahap meningkat dengan meningkatnya jumlah lapisan, dan posisi puncak puncak 2D bergeser biru, yang mungkin terkait dengan hubungan pita energi bahan graphene. Struktur pita energi elektronik terpecah dengan bertambahnya jumlah lapisan, dan berbagai proses hamburan resonansi fonon akan terjadi. Puncak eksiton akan tereksitasi dengan menyerap lebih banyak energi, yang akan menyebabkan pergeseran biru posisi puncak 2D. Intensitas puncak puncak G di Titik C dan E secara signifikan lebih tinggi daripada puncak 2D. Aku2D /AkuG rasio menurun dengan bertambahnya ketebalan, dan graphene yang ditransfer dalam percobaan ini tidak terlalu seragam, yang berada dalam kisaran yang diijinkan. Gambar 5b menunjukkan kekuatan spektrum Raman dari graphene monolayer. Intensitas puncak G dan 2D graphene secara bertahap meningkat dengan peningkatan daya laser dan suhu, dan pada dasarnya tidak ada perubahan posisi puncak dan FWHM. Puncak G dan puncak 2D, masing-masing, terletak pada 1581 cm
−1
dan 2672 cm
−1
, dan intensitas dua puncak karakteristik sangat berbeda. Karena perubahan interaksi antara graphene dan SiO yang mendasari2 , rasio puncak karakteristik I2D /AkuG berkurang. Sementara itu, tidak ditemukannya puncak cacat D pada spektrum Raman, yang menunjukkan bahwa daerah grafena yang dipilih memiliki kualitas yang tinggi dan susunan atom karbon yang tinggi.
Karakterisasi spektral graphene. a Spektrum Raman pada posisi yang berbeda dan b kekuatan spektrum Raman
Spektroskopi Raman digunakan untuk mengkarakterisasi dan menganalisis graphene/WS2 bahan hetero-struktur, dan ada dua spektrum 300 cm
−1ω 500 cm
−1
dan 1400 cm
−1ω 3000 cm
−1
, yang dilengkapi dengan fungsi Lorentz. Ada E
12g dan A1g mode puncak karakteristik WS2 dalam kisaran 300 cm
−1ω 500 cm
−1
. E
12g mode fonon adalah perpindahan dalam bidang atom belerang dan tungsten, sedangkan A1g mode fonon adalah perpindahan atom belerang di luar bidang, lokasi dan interval mode fonon di atas bervariasi dengan nomor lapisan. Puncak G dan 2D graphene muncul di wilayah spektrum 1400 cm
−1ω 3000 cm
−1
, dan informasi nomor lapisan dan kualitas kristal graphene dapat diperoleh sesuai dengan rasio intensitas dan posisi puncak karakteristik puncak.
Perbedaan frekuensi dari dua puncak pemisahan Davydov yang berbeda dapat mencerminkan besarnya interaksi struktur hetero vdWs. Oleh karena itu, frekuensi mode fonon getar intra-layer dari material 2D multilayer juga bergantung pada kopling antar-lapisan dan nomor lapisan. Gambar 6a menunjukkan karakterisasi uji spektrum Raman dari graphene/WS2 hetero-struktur pada titik yang berbeda di bawah laser 532 nm. Dapat diketahui bahwa intensitas E
12g puncak karakteristik lebih tinggi dari A1g intensitas puncak karakteristik, dan E
12g dan A1g puncak karakteristik terletak pada 349,3 cm
−1
dan 417,1 cm
−1
, masing-masing. Spektrum Raman 2D dan puncak G dari graphene/WS2 hetero-struktur, masing-masing, pada 1591,5 cm
−1
dan 2680.9 cm
−1
, dan posisi puncak puncak 2D dan G meningkat dibandingkan dengan graphene murni, yang mungkin terkait dengan kopling antarlapisan efektif WS2 nano-sheet dan efek regangan yang dihasilkan oleh pemanasan suhu tinggi selama pertumbuhan CVD. Spektrum Raman dari graphene/WS2 material hetero-struktur hanyalah jumlah dari WS individu yang terpisah2 dan spektrum graphene, yang dapat mengkonfirmasi pembentukan antarmuka heterojungsi vdWs. Intensitas spektrum PL berhubungan dengan kualitas kristal dan jumlah lapisan. Spektroskopi Raman berfokus pada pengaruh pembentukan struktur-hetero pada mode getaran, dan struktur pita elektronik dari bahan struktur-hetero TMD dapat diperoleh terutama dengan spektrum PL. Gambar 6b menunjukkan spektrum PL graphene/WS2 heterostruktur pada titik yang berbeda. Puncak luminesensi terkuat terletak pada 624 nm, dan celah pita yang sesuai adalah 1,99 eV, yang konsisten dengan lebar celah pita WS monolayer2 . Grafena/WS2 bahan hetero-struktur pada posisi yang berbeda memiliki intensitas dan bentuk spektrum PL yang berbeda, dan kualitas kristal tidak terlalu baik. Oleh karena itu, proses penyusunan heterostruktur perlu lebih ditingkatkan. Intensitas spektrum PL dari graphene/WS2 hetero-struktur lebih lemah daripada WS2 . Ini karena kopling antar-lapisan graphene/WS2 hetero-struktur mengubah fluoresensi eksiton wilayah hetero-struktur, yang akan mengarah pada pemisahan pasangan elektron-lubang dan pengurangan fluoresensi. Sedangkan posisi puncak bergeser saat graphene/WS2 hetero-struktur terbentuk, dan transfer muatan dapat menyebabkan pergeseran permukaan Fermi, yang dapat membuat eksiton bebas berubah menjadi eksiton bermuatan. Gambar 6c menunjukkan spektrum kekuatan Raman dari graphene/WS2 hetero-struktur. Mode fonon dalam pesawat E
12g puncak karakteristik dan mode fonon di luar bidang A1g puncak karakteristik, masing-masing, pada 356 cm
−1
dan 418 cm
−1
, di mana puncak karakteristik di atas meningkat dengan peningkatan daya laser. Posisi puncak dan bentuk puncak karakteristik seragam dalam kristal tunggal, dan karakteristik elektronik WS2 pada graphene/SiO2 /Si substrat seragam. Ketebalan WS2 lembar dapat ditentukan sesuai dengan perbedaan frekuensi antara A1g dan E
12g puncak karakteristik, dan jarak rata-rata adalah 62 ± 0.2 cm
−1
, yang konsisten dengan ketebalan WS monolayer2 . Dibandingkan dengan posisi puncak grafena intrinsik, puncak G dan posisi puncak 2D grafena/WS2 struktur hetero dari 1578,7 cm
−1
dan 2685.8 cm
−1
ubah menjadi 1582,2 cm
−1
dan 2689,5 cm
−1
, masing-masing. Selain itu, intensitas puncak G menjadi lebih kuat daripada puncak 2D dengan peningkatan kekuatan laser, dan penurunan I2D /AkuG rasio, yang disebabkan oleh perubahan interaksi antara graphene dan SiO2 /Si substrat [36, 37]. Dapat ditemukan dengan mengamati Gambar. 6d bahwa intensitas PL graphene/WS2 hetero-struktur meningkat dengan peningkatan kekuatan laser, FWHM spektrum PL juga meningkat, dan bentuk spektrum PL berubah. Alasannya adalah bahwa suhu uji di sekitar struktur-hetero meningkat, dan ada juga kopling antarlapisan yang kuat pada antarmuka graphene/WS2 heterojungsi.
Karakterisasi spektral graphene/WS2 hetero-struktur. a Spektrum Raman pada posisi yang berbeda; b spektrum PL pada posisi yang berbeda; c kekuatan spektrum Raman; dan d spektrum daya PL
Spektrum Raman dari graphene/WS2 hetero-struktur berbeda secara signifikan dari wilayah graphene yang terpapar, seperti yang ditunjukkan pada Gambar. 7a. Pertama, latar belakang spektral naik ketika bilangan gelombang meningkat, dan latar belakang berasal dari spektrum PL WS2 , yang mengonfirmasi keberadaan graphene/WS2 hetero-struktur. Selanjutnya, WS2 material dapat menekan intensitas puncak karakteristik 2D graphene. Terakhir, puncak G dan puncak 2D graphene/WS2 hetero-struktur bergeser ke atas dibandingkan dengan spektrum bahan graphene telanjang. Due to the interlayer coupling between graphene and WS2 , the 2D peak would also shift up, and the mechanical strain also has the impact on the Raman shift of graphene. The enhancement factor (EF) is the ratio of the maximum peak intensity of graphene/WS2 hetero-structure divided by the maximum peak intensity of graphene. The maximum peak intensity of G peak increases from 460 to 830, and the maximum peak intensity of 2D peak increases from 340 to 1460, and the corresponding EF were 1.8 and 4.3, respectively. The D peak signal is significantly enhanced when the graphene/TMDs hetero-structures is formed. Therefore, the ID /AkuG ratio of monolayer graphene is weaker than that of graphene/WS2 hetero-structure. This is because the extrusion of WS2 on graphene has the effect on the structure of graphene, which would result in the appearance of a small number of defects. In Fig. 7b, the PL intensity of graphene/WS2 hetero-structure is higher than that of bare graphene, which may be related to the effective interlayer coupling and the strain effect. Meanwhile, the maximum intensity of PL spectra is increased from 270 to 1410, and the corresponding EF is 5.23. The intensity enhancement of characteristic peak can be attributed to the coupling of graphene/WS2 hetero-structure.
a Raman spectra and b PL spectra characteristics comparison of graphene before and after WS2 growth
Raman spectroscopy can be used to evaluate the crystal quality and film thickness of 2D materials. The Raman spectra comparison of WS2 and graphene/WS2 hetero-structure is shown in Fig. 8a. Compared to the Raman spectra of WS2 , A1g mode characteristic peak position of graphene/WS2 hetero-structure was blue-shifted, and the intensity of E
12g mode and A1g mode characteristic peaks was higher than those of WS2 , and the graphene/WS2 hetero-structure film has the excellent crystallinity. The reason is that the coupling between layers can be enhanced when the two materials are stacked to form the hetero-structure, which would generate the interlayer interaction forces. The maximum E
12g and Alg characteristic peak intensity increases from 3400 and 1100 to 6500 and 2950, respectively. And the enhancement factors (EF) are 1.9 and 2.7, respectively. In addition, monolayer WS2 and multilayer WS2 are the direct band gap semiconductor and indirect semiconductor materials, respectively. Therefore, the PL spectroscopy can be used to identify the layer number of WS2 Sampel. In Fig. 8b, the above two materials show that the strongest PL emission was around 626 nm, and that the band gap was approximately at 1.98 eV, which is consistent with band gap of the mechanically peeled monolayer WS2 . The PL intensity of graphene/WS2 hetero-structure was stronger than that of monolayer WS2 . The reasons are the following:First, the work function between graphene and WS2 does not match. Second, the internal field was formed. Third, the photoelectrons from WS2 can transfer to graphene. Forth, the WS2 material retains holes. The maximum intensity of strongest peak increases from 7450 to 19,320, and the EF of PL spectra are 2.6. The increase in peak intensity is due to the coupling between graphene and WS2 materials.
a Raman spectra and b PL spectra characteristics comparison between WS2 and graphene/WS2 hetero-structure
Optical Micrograph and Characterization of Graphene/MoS2 Hetero-structure
The optical microscope pictures of graphene/MoS2 hetero-structure on SiO2 /Si substrate are shown in Fig. 9a. We found that the color of the graphene transferred to SiO2 /Si substrate was not much different from the original one. The surface was relatively clean except for a few particles in some areas. These results indicate that the graphene film is uniformly and completely formed. MoS2 thin film covers graphene/SiO2 /Si substrate, which can be connected into the continuous graphene thin film across the grain boundaries. The prepared graphene/MoS2 hetero-structure was continuous and intact, and the sample surface was relatively clean, which has the good surface uniformity. The local fluorescence intensity distribution is not uniform when there are many defects. Figure 9b shows the in-plane fluorescence intensity distribution of triangular monolayer MoS2 film. The crystal lattice of sample has the fewer defects. In Fig. 9c, d, the surface condition of the material is observed by AFM, and the height difference between the edge of the material and the graphene/SiO2 /Si substrate is measured to judge the material thickness, the thickness of monolayer MoS2 material is about 0.81 nm. It can be found by the SEM test result that the morphology of MoS2 film sample is the triangular flake, as shown in Fig. 9e. It can be found by observing Fig. 9f that the molybdenum, sulfur and carbon elements are uniformly distributed in the EDX spectrum, which indicates that the graphene/MoS2 hetero-structure has been successfully prepared.
a Optical micrograph, b mapping image, c AFM image, d height profile image, e FE-SEM image and f EDX spectrum of graphene/MoS2 hetero-structure on SiO2 /Si substrate
The interlayer interaction weakens with decrease in the film thickness. The A1g mode characteristic peak is red-shifted, whereas the characteristic peak of E
12g mode is blue-shifted. As a result, the frequency distance between A1g dan E
12g vibration modes becomes smaller, which can be used to identify the thickness of 2D materials. Figure 10a shows the Raman spectra of MoS2 at different positions. The characteristic peaks of E
12g mode and A1g mode were at 381.2 cm
−1
and 400.5 cm
−1
, masing-masing. And the peak spacing was 19.3 cm
−1
, which indicates the presence of monolayer MoS2 . Due to the Van der Waals force between the layers, the frequencies of two vibration modes moving in the same or opposite directions between adjacent atoms in the layers are slightly different. The PL spectra are used to obtain the light emission characteristics of MoS2 film, as shown in Fig. 10b. As we all know, the luminous intensity of monolayer MoS2 was much greater than that of multilayer, and the electronic band structure changed from indirect band gap to direct band gap when the layer number of MoS2 material changed from multilayer to single layer. Therefore, there was only the strong emission peak of monolayer MoS2 . In addition, the strongest PL peak was at 678.5 nm, and the corresponding direct band gap was 1.83 eV, which is close to the band gap value of mechanically peeling MoS2 film. It can be found by observing Fig. 10c that the characteristic peak intensity of Raman spectra is increased with increase in the laser power and that the peak positions of E
12g dan A1g mode characteristic peak were blue-shifted. This is because the Raman peak line would have a certain frequency shift with increase in the temperature and laser power. Figure 10d shows the power PL spectra of MoS2 , the luminous intensity increasing accordingly with increase in the laser power, and the strongest PL peak position was blue-shifted.
Spectral characteristics characterization of MoS2 . a Raman spectra at different positions, b PL spectra at different positions, c power Raman spectra and d power PL spectra
A high-frequency layer vibrating phonon mode of monolayer 2D material would split into the N corresponding high-frequency modes in an N-layer 2D material, which would lead to the Davydov splitting. Figure 11a shows the Raman spectra of graphene/MoS2 hetero-structure, and there were the G, 2D peaks of graphene and the E
12g dan A1g peaks of MoS2 , which indicates the formation of layered graphene/MoS2 hetero-structure material. The E
12g dan A1g Raman characteristic peaks of MoS2 were located at 375.5 cm
−1
and 394.4 cm
−1
, masing-masing. And the peak spacing was 18.9 cm
−1
. Compared with intrinsic graphene, the G peak and 2D peak positions of graphene/MoS2 hetero-structure shift to large wavenumbers, and G peak and 2D peak move from 1581 and 2672 cm
−1
to 1587 and 2674 cm
−1
, masing-masing. In addition, the intensity of G peak is stronger than that of 2D peak. The rise of the 2D and G peaks position is related to the effective interlayer coupling and the strain effect. Compared with the Raman spectra of MoS2 material, the spectra of graphene/MoS2 hetero-structure material are significantly shifted due to the enhancement of interlayer atomic interaction, and the peak intensity can also be significantly enhanced. It can be found from Fig. 11b that the graphene/MoS2 hetero-structure has two absorption peaks at 621 nm and 683 nm and that the corresponding band gaps were 1.99 eV and 1.82 eV according to the conversion relationship between wavelength and electron volt. The luminous intensity of graphene/MoS2 hetero-structure was lower than that of intrinsic MoS2 . The reasons of these phenomena are that the graphene material has the weakening effect on the fluorescence of MoS2 material and that the electronic energy band and electronic distribution can be changed due to the interlayer coupling, which can greatly change the PL and Raman spectra.
Spectral characteristics of graphene/MoS2 hetero-structure. a Raman spectra at different positions, b PL spectra at different positions, c power Raman spectra and d power PL spectra
Figure 11c shows the power Raman spectra of graphene/MoS2 hetero-structure, the Raman peaks intensity of G, 2D, E
12g , and A1g increasing with increase in the laser power. The peak position difference between E
12g dan A1g is gradually enhanced with increase in the layer number of MoS2 bahan. The characteristic peak positions of E
12g dan A1g were 377.2 cm
−1
and 396.7 cm
−1
, masing-masing. And the peak position difference was 19.5 cm
−1
, which can be judged that MoS2 material is the monolayer. Meanwhile, the G and 2D peaks of graphene were red-shifted and blue-shifted, respectively. This is because graphene material is doped with MoS2 . It can be found by observing Fig. 11d that there were two PL peaks of graphene/MoS2 hetero-structure. These PL peak corresponding to the compound transition of A and B excitons, wherein the light emission corresponding to the direct band gap exciton recombination was 1.84 eV, whereas the peak corresponding to the indirect band gap exciton recombination was at 2.0 eV. The luminous intensity of strongest peak is increased with increase in the laser power, and the peak position of the strongest PL spectra is red-shifted. This is due to the p -type conductivity of the graphene and the change of band structure when graphene and MoS2 materials were stacked. In addition, the arrangement of energy bands at the interface allows the electrons from electron-rich MoS2 to transfer to p -type graphene material.
Kesimpulan
Graphene/TMDs-based hetero-structures, where WS2 dan MoS2 were used as TMDs material, were successfully synthesized directly on graphene films by using APCVD. The morphology, spectral characteristics and luminescence law of hetero-structures can be obtained by AFM, SEM, EDX, Raman and PL spectroscopy, and the hetero-structures show the excellent photosensitivity. Compared with intrinsic graphene material, the G and 2D peak positions of graphene/TMDs hetero-structures are the blue-shifted, the intensity of G peak is stronger than that of 2D peak with increase in the laser power and decrease in the I2D /AkuG perbandingan. Due to the presence of internal electric field, the photo-generated electron–hole pairs can be effectively separated at the interface of graphene/TMDs hetero-structures, which could greatly improve the light response. This research could effectively guide the preparation process improvement in large-area, high-quality hetero-structures, and it could also pave the way for the application of graphene/TMDs hetero-structures in the optoelectronic devices field.
Ketersediaan data dan materi
The experiment data supporting the conclusion of this manuscript have been given in this manuscript.